【纳米压印】这两天的关注度火爆全网，很多投资者问我们这个技术具体是啥情况，是否能取代光刻机，这里统一做一个说明

纳米压印其实并不是新东西，数年前就有非常成熟的应用，像这两天市场关注度比较高的<苏大维格>是把这个技术应用于大尺寸触控、反光材料、光学膜等应用领域，<汇创达>则是把它应用于制造导光结构组件，即应用于背光的膜结构产品里。这类产品的应用面非常成熟，在消费电子的触控模组、导光背光的应用领域有很多。

至于在半导体端的应用，首先要说一点，纳米压印确实在半导体相关制程里有应用，而且也比较成熟。至于有些网络上的段子写 “纳米压印技术在国际半导体技术中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的代表之一” ，这个不敢说未来没可能吧，但是至少目前我们看到的成熟应用还做不到这么先进的节点。

目前纳米压印在半导体制程中应用最常见的应用领域就是LED芯片的PSS图形化制作，过去行业内PSS的环节制作过程是涂胶-曝光-显影（光刻胶），这里面需要使用光刻机，使用纳米压印技术的流程是：涂胶-纳米压印（UV胶）完成，省去曝光（光刻）机的采购。

像国内这个环节做的最好的就是<兆驰股份>，兆驰股份是所有LED芯片厂中，唯一的不用光刻机做PSS，完全用纳米压印做PSS的厂商，其效果也非常明显，兆驰的PSS图形化成本能比别家便宜30%左右甚至更多，这也是兆驰全产业链布局节省成本提高利润率中非常重要的一环。目前来看，LED芯片产业为了学习兆驰节省成本，在PSS制作环节使用纳米压印去替代光刻确实也是一个行业趋势。

从国内厂商应用纳米压印的技术节点来看，目前国产纳米压印设备的线宽可以做到<100nm，精度<5nm，这个尺寸还是主要应用于功率器件、面板、LED等成熟制程为多，而且纳米压印技术相比于传统曝光技术，因不存在区域曝光拼接问题，黄光制程良率也会略高。