中国的颠覆式创新：光刻流水线

五道口老实人我想说：综合各方信息，情况基本上对上了，就是中国不搞ASML那样的光刻机，而是搞了一个国家大装置，相当于光刻流水线。原理是一样的，但是设备全换了，这样一来，由于不需要高度集成设计，不但绕过了很多专利陷阱，最关键的是良率的概念也不太适用了：原来由于光刻机本身非常贵，晶圆光刻周期也很长，导致一个晶圆上如果良率不足，成本就会很高，如果搞成光刻流水线，晶圆大规模并行光刻，芯片光刻周期就很短了，就算单个晶圆上的良率不高，成本也能有效控制下来……这是真正的颠覆式创新！

以前说搞不定euv的光源，大概率是光源小型化是一个重大门槛，现在门槛不要了，直接把大型环形激光加速器搬进去，产生足够功率甚至更强的光源。

这就是打印机和印刷厂的区别。

一下子想起了任老先生年轻时参加的建设工程项目：仪征化纤。

全套日本的设备，日本要求一个接料平台，的水泥基座误差不能超过0.5毫米。水泥砂浆误差控制在0.5毫米，这是不可能的。

工程人员直接在这个水泥平台上固定一块大钢板，然后找来车床切削，别说误差0.5毫米，误差0.05毫米，对于金属切削加工工艺都不是太大的挑战。

对于土木作业来说，误差0.5毫米，你这是难为谁呢？

但是对于金工作业，误差0.5毫米，你这是瞧不起谁呢？

通俗的解释就是把不同波段的光看做一堆大小不等的球，光刻机中需要一个过滤装置去得到特定大小的球，ASML牛逼的地方在于能在几米的光路中就把需要的7nm球给找出来，其余不需要的就过滤掉了！

现在中国搞的这个思路，就是几米路线我过滤不出来，就把这个路线给搞成几千米环形跑道，大小不同的球，在这个跑道内越跑差距越大，而相同大小的球，则会聚集在特定的区间内。

最终的结果就是 我们一个环形跑道内，会产生1纳米到100纳米的不同区间。

需要几纳米，就去对于的位置取就行了。。

我国这个光刻机，5nm可能是良品，良品率只有百分之30，但是同时生产时候其他的14nm，24nm我国国内也有人要，相当于国外可能一箱出来百分之80全是5nm，但是剩下20就是损耗，但是我国不一样5nm是良品，但是其他的14，24其他企业也能用，比如电视机遥控器，这就是世界工厂底气，我国有整套工业链，而且薄利多销。

五道口老实人我想说，这就是科研思维和工程思维的区别！

人家是当商品卖，所以设备紧凑，方便运输、安装。咱们暂时突破不了小型化，也没有外销的需求，那就按工厂的方式搞！

力大飞砖，暴力美学的典范，典型的苏联思路，米格25就是这么弄出来的！

这真是戳到了理工男的浪漫！

闪闪的红星一直在东方闪烁！

这个思路绕过了几个障碍，第一个是光源这个功率直接是现在光刻机几百倍，第二个是镜头，我们不用雕刻很精细，可以把镜头做成几十米直径，然后小的加工不精细的，就可以忽略了，因为缩放的比例大了十倍以上，以前的光罩雕刻7NM需要镜头1微米的精度，我们现在用十微米精度都可以，第三个是光刻胶，因为日本的光刻胶最大的优势就是非常敏感的，微小的极紫外光都可以曝光，现在我们直接不用了，就用加工很糙的光刻胶，加大光源功率，一样可以完成光刻胶的。

工业发展都是集成化，小型化。大家都有点惯性思维了，结果来个逆向思维，做不成集成化和小型化，那就往大了做，工序拆解细分。好比做不了精密的加工中心，那就拆分去搞车床，铣床，刨床，磨床，再配合自动化流水线作业一样能达标，还可以规避加工中心设备的专利壁垒，就是需要的一个超级特大号的车间。

直接把光刻机给拆了，平铺开，一个零件一个零件的磨精度，无非就是占地面积大点。我们直接搞成生产流水线。

你搞一个大柜子，老子自己拉成一条生产流水线。

最后，五道口老实人我想说：但凡一个国家要把自己工业的某个分支搞起来，最重要的就是建城墙，让国外有竞争优势的产品进不来，保护国内落后幼小的企业成长起来。 然而，这个道理大家都懂，人人都这么干，国际贸易就别做了，于是就有了很多贸易组织，其中影响力最大的就是世贸组织WTO，加入贸易组织，也就进入了世界市场，同时成员国也需要开放自己的市场，这个时候你就不能随便限制国外有竞争的产品进入本地市场，当然具体操作上要复杂的多，对不同发展程度的国家，还是有不同程度的贸易保护，这也是我们反复强调自己还是发展中国家的原因吧。 说到这里，重点来了，我们如果要发展本土芯片产业，最重要的一个手段是要限制国外的芯片进来，然而我们参加了很多贸易组织，顺差又那么大，随便限制国外产品肯定不行。以前碰到类似情况，通常是偷偷补贴，定向采购，通过国家牵头企业亏本也要守住本土市场。 就在这时，神助攻来了，建国同志开始了制裁，主动不卖芯片给我们了。 来，一起拜一拜我国芯片的祖师爷。