荷兰半导体设备出口管制涵盖光刻、沉积、外延等设备
根据荷兰政府官网，以下设备属于出口管制范围：
- EUV光罩保护膜及其生产设备；
- 光刻设备：
  a、光源波长＜193nm；或者
b、光源波长≥193nm，且满足最小可分辨特征尺寸（MRF）≤45nm，以及DCO≤1.50nm；
- 特定ALD设备；
- 特定的硅、碳化硅、锗硅外延设备等；
管制新规将在今年9/1日生效，上述设备出口需要经过荷兰外贸和发展合作部部长许可。

ASML最先进浸没式光刻机受到影响，符合此前预期
6/30日，ASML官网发表声明，荷兰政府当日发布针对半导体设备出口的管制新规（EUV销售已经被限制）。ASML表示，最先进的浸没式DUV系统（NXT：2000i及之后型号）需要申请荷兰政府的出口许可。高端DUV光刻机出口限制情况与今年3月ASML预期的一致。根据ASML官网，1980Di型号光刻机的波长为193nm，分辨率≤38nm，DCO为1.6nm（不属于限制范围）。通过多重曝光，1980Di可以做到更小制程，从而满足国内大部分晶圆产线扩产的需求。

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风险提示：需求不及预期、技术迭代和贸易摩擦风险。