上海微电子增资？-韭研公社

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上海微电子增资？

东风破

超短低吸的散户

2023-09-09 23:39:12

我国正在研发三种模式的光刻机，最具颠覆式的是1千瓦级的SSMB-EUV光源，直接把光刻机光源变成基础设施--同步辐射光源，秒杀现在ASML最先进的光刻机。

现在看来EUV光刻机这个最难的点估计会按时完成。2025-2026估计中国大陆就可以生产3nm芯片了。

欧美等着中国产业链生产大潮淹死吧。

对我国的EUV光刻机要有信心，那些说十几二十年才能做出EUV光刻机的人不是蠢就是坏 [并不简单]

EUV光刻机就是个很纯粹的工程问题。
其理论不存在问题，工程上已有公司可以实现，国内需求也足够大，也有一定的基础。人才有，需求有，可行性没问题，有行业基础，剩下的就是时间和投入。这恰恰是中国的强项

目前国内有三条EUV光刻机研发路线，突出一个我全都要，饱和式研发，不计成本 [酷]

1.正统路线，也就是ASML的EUV光刻机路线。HW+上海光机所+宇量昇，国家队，走500W LPP光源+复杂镜头组的技术路线。现在进度最快，技术复杂度相对最高，特别是超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器技术难度非常高。进度保密 [阴险]

2.改进型路线。广东智能机器研究院(广智院)+华中科技大，他们在尝试一种采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技术路线。如果他们那个400路光纤激光器能够成功，将是使用二氧化碳激光器的LPP光源功率的数倍。何时成功还是未知 [二哈]

3.颠覆式路线。清华大学主导的1千瓦级SSMB-EUV光源，直接把光刻机光源变成基础设施--同步辐射光源。直接把光源变成类似工业园中的电力、蒸汽、纯水等可购买原料。比如：深圳产业光源系统规划了EUV光刻线站和EUV检测线站等合计四条光束线，六个实验站。

这条技术路线如果成功，可以秒杀上面两条路线。光源外置、极大简化的光路直接把EUV光刻机变成体积大，但是成本相对较低的批量产品。且更匹配中国极高的基础设施建设能力 [笑cry]

从2020年10月国内启动举国体制加速研发后，光刻机研发进度极快。第一条技术路线的EUV光刻机将比大家预期的更快的时间内量产。第三条的技术路线是未来第2代、第3代EUV光刻机的优势路线，也是中国光刻机技术赶超ASML的关键