阿石创属于新材料平台型公司， 主营产品为PVD 镀膜材料，包括ITO、钼、铜、铝、硅、钛、钽及各类合金与稀有金属靶材；应用领域从光学到节能玻璃，再扩展至LED 与显示面板、光伏与半导体等；光伏靶材及复合铜箔将成为主要增长点，公司大客户包括：爱发科、AKT等国内外顶尖PVD设备厂商。

推荐逻辑：

➢ HJT：可提供电池镀膜所需的 ITO、AZO 等各类靶材，随着HJT产能不断释放，预计全球2022-2024年HJT电池靶材市场空间为2.09/10.53/19.82亿元，三年CAGR达207.95%。

-同时预计公司2022-24年HJT靶材产量分别为27/106/276吨，有望受益于行业高增实现快速成长。

-当前PET 铜箔工业化生产的难点在于PVD溅射镀膜环节，公司丰富的PVD 镀膜经验，正好对应解决当前PET 铜箔的技术难点，为公司发展PET 铜箔业务奠定了坚实的基础。

-其以PET/PP等高分子材料为基材，通过PVD及电镀工艺双面沉淀金属薄膜，公司PET铜箔市占率有望达到3%以上，并有望在 23 年正式生产锂电池集流体复合箔（含铜箔、铝箔）。

a. HJT 靶材

-高透高导低成本的 TCO 薄膜是 HJT 量产前提， 

-而物理气相沉积PVD 是一种优势显著的真空镀tco薄膜的技术， 

-pvd用的氧化铟锡（ITO）靶材是，技术门槛高性能优良且成熟的靶材，被列为35 项“卡脖子”技术之一，公司布局ITO靶材近十年，2017 年量产线投产

➢非晶硅钝化是异质结钝化结构的核心:   硅锭切割产生硅片，其表面晶格受损而产生大量的悬浮键，这些拥有大量固有缺陷的切片进入电池生产流程的时候，会使载流子复合概率增大。异质结通过晶硅和非晶硅形成 PN 结，而非晶硅钝化能够使晶硅表面缺陷处于不活跃状态，从而提高成品电池片的转换效率。

➢完成钝化接触的非晶硅几乎不具备横向导电性，因此引入了同时具备优异光、电性能的 TCO 薄膜。

➢HJT 2.0 总体结构由正面至背面分别是复合 TCO 薄膜、N 型掺杂非晶硅薄膜（微晶化）、本征非晶硅薄膜、N 型晶硅、复合本征非晶硅薄膜、P 型非晶硅、TCO 薄膜。

b. 集流体复合箔：PVD 溅射镀膜技术延伸，公司PET 铜箔业务有望率先实现量产

➢ 复合铜箔镀膜：核心环节为 PVD 磁控溅射和水电镀增厚（二步法）

真空磁控溅射： 使用 PVD，电子在真空条件下，碰撞氩原子使其成为 Ar 离子，Ar 离子在电场作用下加速飞向阴极靶，以高能量轰击 Cu 合金靶表面，使靶材发生溅射，靶原子或部分离子沉积在基膜上形成薄膜，厚度一般为 5-20nm。

水电镀（碱性+酸性离子置换）：碱性离子置换药剂主要为焦磷酸铜、焦磷酸钾、柠檬酸铵，药剂呈碱性。铜离子在膜面上得到电子后，会在膜面上形成厚度为 100nm左右的铜堆积层；酸性离子置换药剂主要为硫酸铜溶液，药剂呈酸性。铜离子在膜面上得到电子后，会在膜面上形成厚度为 900nm 左右的铜堆积层.

➢在研发端：阿石创现拥有真空镀膜机、烧结系统、等离子喷涂设备、电子束焊机等主要生产设备和 GDMS 质谱仪、扫描电镜、光谱仪、真空镀膜机等研发和检测设备。

目前进度：

➢pvd环节送样中（没有加水电镀）；

➢定制设备，东威和腾胜23年3月左右交付；设备调试方面自己能一定的调整，水电镀只能依靠东威。

➢实验室生产没问题，卡在了量产阶段，量产良率指标基本搞定了，但是卡在效率环节的：厚度、速度、卷长、宕机等；

➢蒸镀的难度在于温度控制—中间层pp耐温只有170度，pet只能抗200度，蒸汽上千度破坏基膜。磁控溅射的难度也在于真空枪体温度到了一定积累会上到300度，会破坏基膜影响连续性。