光刻机路线

1、上微（中科院）走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/50Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。

2、广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，截止2022年他们做出了40Khz的液态锡滴发生器并且打靶产生了极紫外光，目前应该在搓自己的那个400路光纤激光器和束分时照射装置，目前样机的效果是传统二氧化碳激光器的LPP光源的数倍。

3、清华和半导体基金则是路线最为创新、方式最为激进的SSMB-EUV路线，如果能够成功那会直接把上面两条路线杀的妈妈都不剩，但是其风险也可以说是最大的。目前产线已经在雄安开工了