浙商证券电子：光刻机·本周动态跟踪

动态1：林本坚认为中芯国际有可能推进至下一代5nm工艺
事件：北京时间10月27日上午，彭博社文章《US Can’t Halt SMIC, Huawei’s Tech Advances, Chip Guru Says
》提到，浸没式光刻之父、前台积电副总林本坚在近期接受采访时表示，通过利用已经在使用的ASML设备，中芯国际应该能推进到下一代5nm工艺，除了努力尝试达到5nm以外，中国可能还会试验用新材料或先进封装来制造更强大的半导体。
解析：台积电过去用DUV光刻机大规模生产的工艺极限为7nm，而EUV光刻机能以更低的成本和更高的效率进行7nm及以下的芯片生产，因此过去未曾有公司用DUV光刻机实现5nm工艺。

动态2：上海微电子中标华虹(无锡)二期设备订单
事件：上海微电子中标华虹(无锡)二期，中标结果公布时间为10月11日。
解析：经必联网信息核对，该项目编号： 0705-234023603809，此前招标公示内容表明为7台激光退火设备，而非光刻机。
链接：华虹半导体制造（无锡）有限公司12英寸集成电路制造项目中标结果公告(1)-招标采购详情-中国采购与招…​

动态3：上海微电子光刻机专利进展
事件：10月27日，上海微电子申请光刻投影物镜的发明专利进入公示期，该专利申请日为2022年4月12日，申请公布日为2023年10月27日，
解析：该专利旨在“降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期，同时提高光刻投影物镜的像质校正能力，进而提高曝光成像质量，实现更小的曝光分辨率和CDU，相应的，本发明还提供了一种光刻机。”该专利为发明专利，实际生产应用提升需进一步跟踪业界反馈。

光刻工艺产业链核心公司：
光刻整机：张江高科（参股）
光学系统：波长/茂莱/福晶
光刻部件：富创/新莱/电科
光刻胶：华懋（博康）/彤程/南大
掩模版：路维/清溢/冠石

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