红宝丽：5纳米需要多重曝光，大量光刻胶耗材！-韭研公社

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红宝丽：5纳米需要多重曝光，大量光刻胶耗材！

逻辑不强不买

明天一定赚的游资

2024-03-25 12:08:10

5纳米需要多重曝光，大量光刻胶耗材！红宝丽光刻胶上游预期差！

红宝丽：公司一异丙醇胺可用于电子化学品之光刻胶清洗剂，也是近年来公司在国内市场重点拓展的应用领域之一，

目前保持快速增长态势。

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。

在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。